本设备主要用于8英寸硅片以下N型高效太阳能电池制造中的扩散、氧化工艺;也可用于半导体器件制造中的扩散、氧化、退火及合金工艺,同时还适用于对其他材料的特殊热处理。


主要技术参数:


1

反应管有效内径

ø290ø320mm(适用于 □125mm,□156mm

2

生产能力

≥500/批/管 

3

加热温度

RT~1250

4

工作温度范围

4001100

5

温度控制方式

5控温,高精度双模控制

6

恒温区长度及精度

≤±0.5/1300mm800~1100), ≤±1℃/1300mm400~800

7

温度稳定性

≤±0.5/4h.880℃)

8

温度斜变能力

自动可控升温速率:≥20℃/min,最大降温速率5℃/min

9

降温方式

复式水冷+风冷

10

装载台及净化

自动软着陆,垂直层流, 100级(1000级厂房

11

送舟方式

SiC悬臂桨自动水平送舟,无级调速

12

气体控制方式

MFC精确控制

13

压力控制方式

闭环全自动

14

尾气处理方式

尾部集中收集,冷凝气液分离后定向排放

15

炉口环境隔离方式

气帘扫吹技术

16

工艺控制方式

全自动,PLC+工控机,触摸屏操作

17

上料方式

自动上下舟

18

报警保护功能

全面的超温、断偶、短路、停水、停气、误操作等报警连锁保护

19

与自动装卸片机接口

具有(可选)

20

MES系统

具有(可选)

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