设备用途

      该设备是晶体硅太阳电池制造过程中不可或缺的关键设备之一,主要用于晶体硅太阳电池制造中硅片的低压扩散掺杂与氧化工艺。

  产品亮点

   1.低压扩散产量达到常压扩散的两倍;

     2.效率分类状态趋近更好等级

    3.更高的扩散均匀性

    4.气体及扩散源的消耗大大降低,仅为常压的1/5

    5.扩散综合使用成本较常规设备降低20%以上

    6.单位综合能耗下降20%以上

    7. 设备有效工作时间提高5%以上 

  主要技术参数 

序号

指标项目

指  标  值

1

反应管有效内径

ø290~ø320mm适用于 □125mm,□156mm

2

生产能力

≥1000//

3

加热温度

RT~1250

4

工作温度范围

4001100

5

温度控制方式

5控温,高精度双模控制

6

恒温区长度及精度

≤±0.5/1300mm800~1100),

≤±1/1300mm400~800

7

温度稳定性

≤±0.5/4h.880℃)

8

温度斜变能力

自动可控升温速率20/min,最大降温速率6/min

9

降温方式

复式水冷+风冷

10

装载台及净化

自动软着陆,垂直层流, 100级(1000级厂房

11

送舟方式

SiC悬臂桨自动水平送舟,无级调速

12

气体控制方式

MFC精确控制

13

压力控制方式

闭环全自动

14

系统极限真空度

10mbar

15

工艺压力范围

100~400mbar

16

恢复真空时间

AP100mbar<10min

17

系统漏气率

<2mbar/min

18

尾气处理方式

尾部集中收集,冷凝气液分离后定向排放

19

报警保护功能

全面的超温、断偶、短路、停水、停气、误操作等报警连锁保护

20

工艺控制方式

全自动,PLC+工控机,触摸屏操作

21

上料方式

自动上下舟

22

与自动装卸片机接口

具有(可选)

23

MES系统

具有(可选)

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